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本仪器采用非接触、光学相移干涉测量方法,测量时不损伤工作表面,能快速测得各种工作表面微观形貌的立体图形,并分析计算出测量结果。适用于测量各种量块、光学零件表面的粗糙度;标尺、度盘的刻线深度;光栅槽形结构;镀层厚度和镀层边界处的结构形貌;磁(光)盘、磁头表面结构测量;硅片表面粗糙度及图形结构测量等。仪器测量精度高,重复性好,具有非接触和三维测量的特点,并采用计算机控制和快速分析、计算测量结果。本仪器适用于各级测量、计算研究单位,工矿企业计量室,精密加工车间,也适用于高等院校和科学研究单位。

 

技术参数

表面微观不平深度测量范围:1000nm~1nm

测量的重复性:δRa0.5nm

测量精度:8nm

物镜倍率:40×

数值孔径:0.65

仪器视场:目视φ0.25mm;摄像0.13×0.13mm

 WGL
产地China
 
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